19:00 〜 19:15 [7p-A402-22] 水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化ニッケル薄膜の作製 〇(M1)横岩 佑城1、阿部 良夫1、川村 みどり1、金 敬鎬1、木場 隆之1 (1.北見工大工)