一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2017年9月8日(金) 09:30 〜 11:45 A410 (410)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:30 〜 09:45
〇溝尻 瑞枝1、櫻井 淳平1、秦 誠一1 (1.名大院工)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇川上 博貴1、直井 美貴1、富田 卓朗1 (1.徳島大工)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇新宅 貴志1、クイトゥネン ヨウニ2、煮雪 亮1、藤原 英樹1、笹木 敬司1 (1.北大電子研、2.アールト大)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇藤原 英樹1、笹木 敬司1 (1.北大電子研)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇乙部 智仁1 (1.量研)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇高橋 孝1,2、中村 卓磨3、谷 峻太郎3、黒田 隆之助2、坂上 和之4、鷲尾 方一1、小林 洋平2,3 (1.早大理工研、2.産総研オペランドOIL、3.東大物性研、4.早大高等研)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇長島 健1、入澤 明典2、橋田 昌樹3,4、東谷 篤志1、菅 滋正2、阪部 周二3,4 (1.摂南大理工、2.阪大産研、3.京大院理、4.京大化研)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
山田 荘平1、松井 貴輝1、別所 康全1、飯野 敬矩2、〇細川 陽一郎2 (1.奈良先端大バイオ、2.奈良先端大物質)
スケジュール
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