[5a-A413-1~10] 8.2 プラズマ診断・計測

△ [5a-A413-6] Ar+H₂ 誘導熱プラズマにおける二次元放射強度分布の測定

〇石坂 洋輔¹、兒玉 直人¹、清水 光太郎¹、隠田 一輝¹、田中 康規¹、上杉 喜彦¹、石島 達夫¹、末安 志織²、渡邉 周²、中村 圭太郎² (1.金沢大院自然、2.日清製粉グループ本社)

キーワード：誘導熱プラズマ、二次元分光観測

誘導熱プラズマ(ICTP)は，高温・高反応性を有しており，ナノ材料生成などの材料処理プロセスに非常に有用である．このようなプロセスにおいて，処理効率を向上させるためにはICTPの性状を詳細に理解する事が重要である．今回は基礎的な検討を行うため，原料無投入としたAr+H2 ICTPに対して二次元分光観測(2D-OES)実験を行った．本発表では，観測されたAr IおよびHa線の二次元放射強度分布の計測結果について述べる．