2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[5a-C11-1~11] 13.3 絶縁膜技術

6.1と13.3と13.5のコードシェアセッションあり

2017年9月5日(火) 09:00 〜 12:00 C11 (事務室1)

小山 正人(東芝)、大田 晃生(名大)

11:00 〜 11:15

[5a-C11-8] 有機金属錯体化反応を活用した酸化ランタンの熱ドライエッチング

山口 欣秀1、篠田 和典1、高妻 豊2、酒井 哲2、伊澤 勝2 (1.日立研開、2.日立ハイテク)

キーワード:酸化ランタン、ドライエッチング、有機金属錯体

High-k材として期待される酸化ランタンのドライエッチングを検討し、有機性材料ガスを用いて有機金属錯体化した後に熱処理するプロセスを開発した。開発プロセスでは400℃以下の加熱によって有機金属錯体層が除去される。講演では一連の処理における重量変化および有機金属錯体の同定について言及する。