[5p-A301-1~19] 15.4 III-V族窒化物結晶

[5p-A301-18] AlGaN深紫外LED高反射フォトニック結晶のダメージレス精密加工

〇鹿嶋 行雄^1,2、田代 貴晴³、小久保 光典³、上村 隆一郎⁴、長田 大和⁴、岩井 武⁵、森田 敏郎⁵、松浦 恵里子^1,2、前田 哲利¹、定 昌史¹、高木 秀樹⁶、平山 秀樹¹ (1.理研、2.丸文、3.東芝機械、4.アルバック、5.東京応化、6.産総研)

キーワード：高反射型フォトニック結晶、ナノインプリントとICPドライエッチングのプロセス統合、二層レジスト

高反射型フォトニック結晶(HR-PhC)の反射効果を引き出すためには、PhCパターンの形状（直径、周期、深さ）及び形成位置を制御して作成する必要がある。本研究では二層レジスト、ナノインプリント一括パターン転写、ダメージレスICPドライエッチング技術を用いて、加工精度10nm以下の精密加工を実施した。