2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[5p-A301-1~19] 15.4 III-V族窒化物結晶

2017年9月5日(火) 13:15 〜 18:45 A301 (メインホール)

小島 一信(東北大)、本田 善央(名大)、齋藤 義樹(豊田合成)

14:15 〜 14:30

[5p-A301-4] 面発光レーザへの応用に向けた窒化物半導体埋め込みトンネル接合

赤塚 泰斗1、不破 綾太1、岩山 章1、竹内 哲也1、岩谷 素顕1、上山 智1、赤﨑 勇1,2 (1.名城大理工、2.名古屋大・赤﨑記念研究センター)

キーワード:トンネル接合

窒化物半導体トンネル接合は、高い吸収係数を持つITO電極の代わりとして、青色面発光レーザに活用されている。更に、このトンネル接合を埋め込むことで、電流狭窄構造として期待される。他研究機関の報告では、明確な電流狭窄が実現されているが、いくつかの課題も報告されている。本研究では、MOVPE法を用いてGaN自立基板上に低抵抗窒化物半導体トンネル接合を用いた埋め込みトンネル接合を形成し、電気的特性を評価した。