[5p-S41-1~20] 7.2 電子ビーム応用

[5p-S41-13] 電子線リソグラフィで作製したハーフピッチ50nmラインアンドスペースにおける描画条件の2変数関数の適切な近似次数の検討

〇黒内 正仁¹、安井 学¹、金子 金子¹ (1.神奈川産技総研)

キーワード：電子線リソグラフィ、近接効果補正