[5p-S42-1~15] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[5p-S42-2] ブロック共重合体薄膜における垂直ラメラ相の粗視化分子動力学シミュレーション

〇山口 徹¹、田中 弘隆¹、ニコラ クレメント¹、藤原 聡¹ (1.NTT物性基礎研)

キーワード：リソグラフィ、自己組織化、ブロック共重合体

ラメラ相が発現可能な最も小さいA₂B₂バネ粒子モデルを用いて、薄膜中でのラメラ相のシミュレーションを行ったところ、(1)垂直ラメラ相が形成されること、(2)指紋状パターンが形成されること、(3)指紋状パターンのドメインが時間とともに増大していくこと、がわかり、実際のラメラ相と同様な挙動を示すことが明らかとなり、非常に極端に粗視化した分子でも配向秩序形成のダイナミクスを説明できる可能性があることが分かった。