16:00 〜 16:15
[6p-C21-10] ミニマル水プラズマアッシングプロセスを用いたpMOSFETの試作
キーワード:ミニマルファブ、レジスト除去プロセス、プラズマプロセス
ミニマルファブにおける新規のレジスト除去プロセスとして、低環境負荷でダメージの低減が期待できる「水プラズマアッシング技術」を開発している。本研究では、水プラズマアッシングプロセスをフルミニマルのpMOSFET製造工程に組み込んで電気特性を評価したので、その結果について報告する。
一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
16:00 〜 16:15
キーワード:ミニマルファブ、レジスト除去プロセス、プラズマプロセス