[6p-S41-1~10] 7.5 イオンビーム一般

[6p-S41-6] 遷移金属薄膜に対する液体クラスターイオンビームの照射効果

〇清水 大貴¹、山本 大介¹、竹内 光明¹、龍頭 啓充¹ (1.京大光電子理工セ)

キーワード：クラスターイオンビーム、遷移金属薄膜

近年、スピントロニクス分野において、遷移金属の高効率な加工技術が求められている。そこで、マグネトロンスパッタ法で作製した遷移金属薄膜に液体クラスターイオンビームを照射し、スパッタリング効果について調べた。クラスター材料は、エタノールやアセトンとした。その時の加速電圧は、3－9kVとした。液体クラスターイオンビームは、超音速自由噴流法を用いて生成したクラスターを電子イオン化することにより生成した。