[7a-A301-1~11] 15.4 III-V族窒化物結晶

[7a-A301-3] グラファイト上InN成長における緩衝層の効果

〇(M1)荒川 真吾¹、久保中 湧士¹、黒田 古都美¹、大江 佑京¹、毛利 真一郎¹、荒木 努¹、名西 憓之¹ (1.立命館大理工)

キーワード：InN、グラフェン、層状材料

InNの高品質成長手法として、我々はDERI法およびグラフェン等の層状材料の基板利用を提案している。これまで、GaNテンプレート上に転写されたグラファイト薄片上に、InN微結晶が成長することを報告してきた。本研究ではグラファイトの濡れの悪さの改善を目指し、緩衝層の効果を検討した。AlN薄膜を挿入すると、結晶粒のコアレッセンスが顕著に見られることを見出した。