[7a-PA4-1~6] 3.6 超高速・高強度レーザー

[7a-PA4-2] 非同期光サンプリング法を用いたInAsP/InGaAsP量子井戸におけるキャリア緩和時間測定

〇日達 研一¹、石澤 淳¹、西川 正²、後藤 秀樹¹ (1.NTT物性研、2.東京電機大)

キーワード：周波数コム、ファイバーレーザー、非同期光サンプリング法

繰り返し周波数がわずかに異なる2台のレーザーを用いたポンプ・プローブ法(非同期光サンプリング法)ではディレイステージが不要であり、1/(レーザーの繰り返し周波数)まで時間分解測定が可能である。今回、2台のファイバーレーザーをポンプ・プローブ光とする非同期光サンプリング計測系を構築し、InAsP/InGaAsP量子井戸におけるキャリア緩和時間を測定した。過渡反射率変化から、キャリア緩和時間は2.3 nsと見積もられた。