2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[7p-A202-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2017年9月7日(木) 13:15 〜 17:15 A202 (202)

矢嶋 赳彬(東大)、菅 大介(京大)

17:00 〜 17:15

[7p-A202-15] 電子ドープ型銅酸化物高温超伝導体La2-xCexCuO4における電界誘起絶縁体超伝導転移

〇(M2)松岡 秀樹1、中野 匡規1、打田 正輝1、川﨑 雅司1,2、岩佐 義宏1,2 (1.東大院工、2.理研CEMS)

キーワード:銅酸化物、超伝導、電解質ゲート

電解質ゲートデバイスは電界効果トランジスタにおける絶縁層を電解質で置き換えたものであり、大量のキャリア(~ 1014 cm-2)をゲート電圧(VG)で制御可能である。今回、電子ドープ型銅酸化物高温超伝導体の一種であるLa2-xCexCuO4の高品質エピタキシャル薄膜の作製に成功し、電解質ゲート法による電界誘起絶縁体超伝導転移を実現したので、その詳細について報告する。