[7p-A204-1~14] 【CS.7】6.1 強誘電体薄膜,13.3 絶縁膜技術,13.5 デバイス／集積化技術のコードシェアセッション

[7p-A204-9] (001)Si基板上にエピタキシャル成長したHfO_​2系絶縁膜への常圧プラズマ照射効果

〇鎌田 大輝¹、高田 賢志¹、桐谷 乃輔¹、吉村 武¹、芦田 淳¹、藤村 紀文¹ (1.阪府大工)

キーワード：HfO2、強誘電体