2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[7p-A402-7~23] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2017年9月7日(木) 15:00 〜 19:30 A402 (402+403)

井上 泰志(千葉工大)、大津 康徳(佐賀大)

18:45 〜 19:00

[7p-A402-21] マイクロ波水素プラズマ化学輸送法によるダイヤモンド合成プロセスの開発

〇(M1)東後 篤尚1、山崎 聡士1、垣内 弘章1、安武 潔1、大参 宏昌1 (1.阪大院工)

キーワード:水素プラズマ、CVD、ダイヤモンド

我々は、高密度水素プラズマによる化学輸送法を利用することにより、化石燃料由来の原料ガスを用いることなく、ダイヤモンドなどの工業的付加価値の高い機能性炭素膜を木質バイオマスの木炭原料から形成するプロセスを提案している。そしてこの物質変換プロセスの実現化に向け、特性が良く規定されている工業用グラファイトを用い、ダイヤモンドの形成を目指し、諸特性の調査を行った。本講演では、その結果について報告する。