The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

17 Nanocarbon Technology » 17.3 Layered materials

[7p-C11-1~21] 17.3 Layered materials

Thu. Sep 7, 2017 1:45 PM - 7:30 PM C11 (Office 1)

Masaki Tanemura(Nagoya Inst. of Tech.), Yasuhide Ohno(Tokushima univ)

2:15 PM - 2:30 PM

[7p-C11-3] Chemical vapor deposition of boron incorporated graphitic carbon nitride thin-film

Maito Kosaka1, 〇Noriyuki Urakami1,2, Yoshio Hashimoto1,2 (1.Shinshu Univ., 2.Inst. of Carbon Sci. and Tech.)

Keywords:Ggraphitic Carbon Nitride, Boron Carbon Nitride

本報告では、グラファイト状窒化炭素(g-C3N4)へのB添加によるh-BCN薄膜の実現の可能性を化学気相堆積法により検討した。g-C3N4およびBの前駆体としてメラミンおよびアンモニアボランをそれぞれ用いた。XPSスペクトルのB1s信号から、h-BNやh-BCNと同様なB-N結合が見られた。B添加量によらずN組成の大きな変化はなかったが、B添加量の増加によりB組成の増加およびC組成の減少がそれぞれ見られ、BがCに置換していることを示唆した。