2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[8a-A504-1~13] 6.1 強誘電体薄膜

6.1と13.3と13.5のコードシェアセッションあり

2017年9月8日(金) 09:00 〜 12:30 A504 (504+505)

小林 健(産総研)、三村 憲一(産総研)

11:15 〜 11:30

[8a-A504-9] Y添加HfO2エピタキシャル薄膜における負の電気熱量効果

〇(M2)松尾 翔吾1、山田 智明1、三村 和仙2、清水 荘雄2、舟窪 浩2、吉野 正人1、長崎 正雅1 (1.名大工、2.東工大物質理工)

キーワード:電気熱量効果、強誘電体薄膜、HfO2

HfO2基強誘電体を電気熱量(EC)効果に用いることで、半導体デバイスに適用できる可能性がある。Hf0.5Zr0.5O2薄膜は負のEC効果を示し、その理由は薄膜が多結晶で、正方晶常誘電相が混在するためと議論されているが、詳しいメカニズムについては明らかになっていない。そこで、エピタキシャル7%YO1.5添加HfO2 を用いてEC効果を評価した結果、この薄膜においても負のEC効果を示した。この理由の可能性として、低温で分極がピンニングされたことがあげられる。