2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学

[8a-C17-1~11] 3.2 材料・機器光学

2017年9月8日(金) 09:00 〜 12:15 C17 (研修室2)

石飛 秀和(阪大)、尾下 善紀(ニコン)、片山 龍一(福岡工大)

10:00 〜 10:15

[8a-C17-4] 特定波長で透明な散乱フィルターによるDNA検査に向けた小型吸光光学系の開発

朱 峻鋒1、樋口 宏和1、吉岡 宏晃1、森田 金市2、興 雄司1 (1.九州大工、2.ウシオ電機)

キーワード:260/280 nm 透明、PDMS、DNA試料評価

我々はポリジメチルシロキサン(PDMS)を積極的に利用した小型、安価でインプリント作製可能な光学技術SOT(Silicone Optical Technology)を提案し、オンデマンド・オンサイト製造を提供可能な一体形光学系の基盤技術について研究を行っている。今回はDNA試料評価に利用できる260 nm, 280 nmの波長に着目し、分光的機構を持つ新しい方式での紫外透過型散乱体の開発について報告する。