2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[8a-C21-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2017年9月8日(金) 09:15 〜 12:00 C21 (C21)

米谷 玲皇(東大)

11:45 〜 12:00

▲ [8a-C21-11] Fermi-level pinning at metal/SiGe interface

〇(M1)Xuan Luo1、Tomonori Nishimura1、Takeaki Yajima1、Akira Toriumi1 (1.The Univ. of Tokyo)

キーワード：Fermi-level pinning, SiGe