09:30 〜 11:30
[8a-PA2-10] 立方晶TiNの電気的特性
キーワード:TiN、電気抵抗率、結晶粒界
TiNはCMOSトランジスタでの金属原子の拡散を防ぐバリア層、エレクトロマイグレーション対策、Wメタルの剥離を防ぐ密着層の電極として用いられる。そのためTiNの電気伝導性を解明することは重要であると考えられる。そこで、本研究ではホール効果測定を用いてTiNを評価した結果を報告する。
一般セッション(ポスター講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
2017年9月8日(金) 09:30 〜 11:30 PA2 (国際センター1F)
09:30 〜 11:30
キーワード:TiN、電気抵抗率、結晶粒界