[8a-PA4-1~31] 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」（ポスター）

[8a-PA4-21] ミストCVD法によるε-In_2xGa_2-2xO₃混晶薄膜の成長

〇宮内 信宇¹、田原 大祐¹、森本 尚太¹、西中 浩之¹、吉本 昌広¹ (1.京工繊大)

キーワード：酸化ガリウム、ミストCVD