11:15 〜 11:30 △ [14a-304-8] Cu-MIC を利用した 300℃プロセスによる ガラス上の自己整合平面型メタルダブルゲート低温 poly-Ge TFT 〇内海 大樹1、佐々木 大精1、関口 竣也1、竹内 翔弥1、大澤 弘樹1、原 明人1 (1.東北学院大工)