16:00 〜 18:00 [14p-P7-8] フォトリソグラフィを用いて300mm SOI基板に作製したシリコンフォトニック結晶ナノ共振器の位置依存性 〇芦田 紘平1、岡野 誠2、大塚 実2、関 三好2、横山 信幸2、越野 圭二2、山田 浩治2、高橋 和1 (1.大阪府大院工、2.産総研)