09:30 〜 11:30 [16a-P5-13] ドライ酸化、窒化、POCl3処理Si面SiC-MOS界面の電子スピン共鳴分光 〇(M2)金 建佑1、奥田 貴史2、須田 淳2、木本 恒暢2、岡本 光央3、原田 信介3、梅田 享英1 (1.筑波大数物、2.京都大、3.産総研)