Schmidt Marek Edward

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発表者・著者、共著者

2017年3月16日(木) 13:15 〜 18:00 315 (315)

シンポジウム(口頭講演)
| シンポジウム
| GFIS（電界電離ガスイオン源）ガスイオン顕微鏡技術とその材料・デバイス研究開発への応用：現状と今後の展望

[16p-315-1~11] GFIS（電界電離ガスイオン源）ガスイオン顕微鏡技術とその材料・デバイス研究開発への応用：現状と今後の展望

17:45 〜 18:00

▲ [16p-315-11] Interaction of gas field ionized nitrogen with silicon

〇(P)Schmidt Marek Edward¹、Zhang Xiaobin¹、Oshima Yoshifumi¹、The Anh Le¹、Yasaka Anto²、Kanzaki Teruhisa¹、Muruganathan Manoharan¹、Akabori Masashi¹、Shimoda Tatsuya¹、Mizuta Hiroshi¹ (1.JAIST、2.Hitachi High-Tech Science Corp.)

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