13:30 〜 15:30 [14p-P4-77] 自己組織化単分子膜を用いたadhesion lithographyによるMoS2 FETの作製 〇川那子 高暢1、居駒 遼1、Du Wanjing1、小田 俊理1 (1.東工大量子ナノ研)