13:30 〜 15:30 [14p-P4-33] マスクレスフォトリソグラフィ装置の開発とCu/グラフェン微細素子における空間分解電子状態解析 〇丸山 航平1、光畑 遼一1、高橋 良暢1、今野 隼1、永村 直佳2、尾嶋 正治3、小嗣 真人1 (1.東理大基礎工、2.物質・材料研究機構、3.東京大学)