講演情報

Tweet

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[14a-213-1~12] 6.4 薄膜新材料

2017年3月14日(火) 09:00 〜 12:15 213 (213)

遠藤民生(さがみはら表面研)、松田晃史(東工大)

11:45 〜 12:00

[14a-213-11] フーリエ変換赤外分光法によるSi(100)基板上のSr₂SiO₄薄膜の評価

〇谷脇将太¹、馬野光博¹、新船幸二¹、吉田晴彦¹、佐藤真一¹、堀田育志¹ (1.兵庫県立大学)

キーワード：シリケイト、薄膜、Sr2SiO4