[14p-213-1~14] 6.4 薄膜新材料

[14p-213-13] キレートフレーム法により合成したGd添加CeO₂膜の封孔処理

〇中村 祥太¹、中村 淳^1,2、小松 啓志¹、齋藤 秀俊¹ (1.長岡技科大、2.中部キレスト(株))

キーワード：キレートフレーム法、Gd添加CeO2(GDC)

本研究では、キレートフレーム法を用いて合成したGd添加CeO₂の封孔処理を試みた。我々は、キレートフレーム法でGDC膜作製し、その後、（Ce _0.8 Gd _0.2）-EDTA溶液を用いて塗布法と大気焼成を行った。XRD結果より、得られたすべての試料が（Ce _0.7 Gd _0.3）O _1.85結晶を含有していることが分かった。EDX結果よりCeおよびGd原子の存在を確認した。キレートフレーム法後に塗布法と大気焼成を行うことで、封孔処理できると考えられる。