[14p-313-1~17] 12.1 作製・構造制御

△ [14p-313-15] ペンタセン薄膜形成に対する窒素添加LaB₆電極パターニングの影響

〇(DC)前田 康貴¹、大見 俊一郎¹ (1.東工大工学院)

キーワード：ペンタセン、LaB6、リソグラフィ

前回、我々は窒素添加LaB₆界面制御層による、ペンタセンを用いたp型OFETのデバイス特性向上に関して報告した。今回、窒素添加LaB₆を用いたペンタセンのn型OFETの作製に向けて、ボトムコンタクト電極のパターニングの影響について検討したので報告する。