2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[14p-315-1~15] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2017年3月14日(火) 13:15 〜 17:15 315 (315)

塩島 謙次(福井大)、牧山 剛三(富士通研)

15:30 〜 15:45

[14p-315-9] Ni/n-GaN縦型ショットキーバリアダイオードの障壁高さの温度依存性

前田 拓也1、岡田 政也2、上野 昌紀2、山本 喜之2、木本 恒暢1、堀田 昌宏1、須田 淳1 (1.京大院工、2.住友電工)

キーワード:GaN、ショットキーバリアダイオード、障壁高さ

本研究では,223-573 Kにおいて,Ni/n-GaN縦型ショットキーバリアダイオードの障壁高さの温度依存性を求めた.容量-電圧測定から求めた障壁高さは温度上昇につれて線形に低下し,その温度係数は-1.8×10^(-4) eV/Kとなった.これは,温度上昇につれてバンドギャップが縮小(伝導帯底が低下)することに起因していると考えられる.なお,順方向電流-電圧測定,内部光電子放出測定によって求めた障壁高さの温度依存性は,それぞれ-2.3×10^(-4) eV/K,-1.7×10^(-4) eV/Kとなった.