[14p-423-1~14] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[14p-423-11] 複雑化・深化するOPC(近接効果補正): GPUによる高速化処理とOPC配置数の削減

〇門田 和也¹、加藤 心² (1.ナノサイエンスラボ、2.日本シノプシス)

キーワード：OPC(近接効果補正)、マスクデータ処理、計算機リソグラフィー

半導体の極微細化ニーズに対応して、サブ２０nm時代のリソグラフィー・マスク技術は、液浸露光、インバースリソグラフィー、マルチビームマスク描画等の高度な露光技術に於いて、ますます複雑化・深化したOPC(近接効果補正)手法の適用、最適化が不可欠となって来た。 この為に、チップレイアウト設計データは、複雑化したOPCを含めると、爆発的に巨大なデータとなり、マスク描画、及び検査時の処理負担削減が喫緊の大きな課題となっていた。
本研究は、このマスクデータ処理をグラフィックプロセッサ（ＧＰGPU）を用いて超高速化し、従来のCPU処理手法を置き換える為の基礎研究を行った。 また、同時にOPCの配置数を極力削減し、且つ極細線化デバイスを形成出来る４分割露光方式（ＱＰＴ）を研究し、そのデバイス性能が、充分に0.4Vの低電圧駆動能力を維持出来ることを、計算機シミュレーションで確認した。