[14p-423-1~14] CS.4 7. Code-sharing Session: Beam Technology and Nanofabrication

[14p-423-6] Lamellar Orientation of Block Copolymer via Electron-beam Induced Polarity Switch
in Nitrophenyl Self-assembled Monolayer

〇Hiroki Yamamoto¹, Guy Dawson², Alex P.G. Robinson², Takahiro Kozawa¹ (1.ISIR, Osaka Univ., 2.Univ.of Birmingham)

Keywords:Self-assembly, Electron beam, Block copolymer

半導体の微細化が進むにつれて、次世代リソグラフィ用レジスト材料に対する要求が厳しくなってきている。それゆえ、トップダウンの代表であるリソグラフィの限界が唱え始められ、トップダウンとボトムアップを融合した革新的な微細化加工技術が求められている。本研究では、電子線によって誘起される自己組織化単分子の変化を利用することでポリスチレンポリメチルメタクリレートのブロック共重合体の配向制御が可能であるどうか調べた。