2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[14p-512-1~15] 3.7 レーザープロセシング

2017年3月14日(火) 13:45 〜 18:00 512 (511+512)

谷 峻太郎(東大)、西 哲平(豊田中研)

15:15 〜 15:30

[14p-512-6] 大気中レーザーアブレーションによる半導体マイクロ球生成と制御

〇(M1)田崎 涼平1、東畠 三洋1、中村 大輔1、諏訪 輝1,2、池上 浩1,2 (1.九大シス情、2.九大ギガフォトンNextGLP共同部門)

キーワード:レーザーアブレーション、酸化亜鉛、光渦

我々は、大気中レーザーアブレーションによって酸化亜鉛のマイクロ結晶球の合成に成功し、光励起によるウィスパリングギャラリーモードレーザー発振を実証している。本研究では、大気中レーザーアブレーションによるマイクロ結晶球の生成メカニズムの解明と制御を目的として高速度カメラによる時間分解観察と光渦レーザーによるレーザーアブレーションを行った。