[14p-P1-1~25] 8 プラズマエレクトロニクス（ポスター）

△ [14p-P1-3] ウエハ外周部ラジカル供給機構の開発

〇川那辺 哲雄¹、手束 勉¹、丹藤 匠¹、栗原 優¹ (1.日立研開)

キーワード：エッチング、プラズマ

半導体製造装置において，ウエハ面内の加工均一性の確保は，量産性向上に必須であり，特にチップ取得数の多いウエハ外周部の均一性確保が重要である。本研究では，半導体エッチング装置におけるウエハ外周部の寸法制御ノブの開発を目的に，ウエハ外周部へのラジカル供給機構を検討した。発表では，ラジカル供給機構の放電性能及びウエハ面内のエッチングレート分布測定により，制御ノブとしての特性を評価した結果を報告する。