13:30 〜 15:30
[14p-P4-31] 二軸電界印加法を用いた酸化グラフェン(rGO)/Siヘテロ接合の形成
キーワード:酸化グラフェン、電界、還元
SiO2膜を除去し、Si上に直接GOを塗布するrGO/Siヘテロ接合に関して、二軸電界印加下で乾燥、その後還元するプロセスがrGOの膜質に及ぼす影響について報告する。
一般セッション(ポスター講演)
17 ナノカーボン » 17 ナノカーボン(ポスター)
2017年3月14日(火) 13:30 〜 15:30 P4 (展示ホールB)
13:30 〜 15:30
キーワード:酸化グラフェン、電界、還元