[14p-P9-1~30] 8 プラズマエレクトロニクス（ポスター）

[14p-P9-4] 高指向性坩堝を用いた斜め堆積反応性蒸着のシミュレーション

〇(B)泉澤 宏樹¹、仲尾 昌浩¹、井上 泰志¹、高井 治² (1.千葉工大工、2.関東学院大)

キーワード：構造制御

斜め堆積法は離散的ナノ柱状構造薄膜を容易に作製できる手段である．その原理は自己遮蔽効果に基づくため，気相中で散乱を起こす環境下では適さないとされている．そこで指向性の高い蒸発源を用いることによって，微細構造制御性が向上する考え，シミュレーションで斜め堆積法が可能な条件を模索する．