[15a-423-1~9] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[15a-423-2] ナノインプリントグラフォエピタキシー分子配向の深さ方向分析

〇岡田 真¹、藤井 良輔²、春山 雄一¹、小野 浩司³、川月 喜弘² (1.兵県大高度研、2.兵県大工、3.長岡技科大)

キーワード：ナノインプリント、分子配向

ナノインプリントグラフォエピタキシーによって作製した光反応性高分子液晶パターンの分子配向について深さ方向分析を行った。