2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

CS コードシェアセッション » CS.4 7. コードシェアセッション:ビーム応用大分類

[15a-423-1~9] CS.4 7. コードシェアセッション:ビーム応用大分類

2017年3月15日(水) 09:00 〜 11:30 423 (423)

横尾 篤(NTT)、中川 勝(東北大)

10:30 〜 10:45

[15a-423-6] 連続UVナノインプリントにおける離型層の耐久性の改善検討

伊吉 就三1、岡田 真1、春山 雄一1、松井 真二1 (1.兵庫県立大 高度研)

キーワード:UVナノインプリント、UV硬化性樹脂、離型層の耐久性

連続運転が可能なUVナノインプリント試験装置を用いてモールド離型層(ASL)の耐久性の検討してきた。ASLの耐久性は、凝縮性ガス、添加剤およびレベリング剤(フッ素系界面活性剤)、インプリント条件、ASL、UV硬化性樹脂(レジスト)が関わっている。本研究では、レジストの組成に焦点をあて、特定のUV硬化性樹脂に異なる化学構造を有するUV硬化性樹脂をブレンドし、ASLの耐久性への影響を観察した。