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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[15p-311-1~18] 6.4 薄膜新材料

2017年3月15日(水) 13:15 〜 18:15 311 (311)

篠田健太郎(産総研)、中村吉伸(東大)、名村今日子(京大)

16:45 〜 17:00

[15p-311-13] 複合成膜により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜

〇(B)井原鈴歌¹、田島直弥²、室谷裕志¹、松本繁治³ (1.東海大学工、2.東海大院工、3.(株)シンクロン)

キーワード：光学薄膜、複合成膜、低屈折率