[15p-318-1~11] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[15p-318-10] 半導体リソグラフィ用LPP-EUV光源の開発

〇西村 祐一¹、竹田 有輝¹、竹中 怜¹、高島 悠太¹、柏崎 務¹、藤巻 貴久¹、福田 修¹、小山内 貴幸¹、宮下 光太郎¹、細田 裕計¹、安藤 正彦¹、若菜 克彦¹、薮 隆之¹、植野 能史¹、鈴木 徹¹、堀 司¹、阿部 保¹、斎藤 隆志¹、溝口 計¹ (1.ギガフォトン)

キーワード：EUV光源、EUVリソグラフィ

ギガフォトン株式会社では、λ=13.5nmに発光ピークを持つスズターゲットに対して、短パルスCO₂レーザを照射することで生成されるプラズマからの放射を用いるレーザ生成プラズマ方式のEUV光源装置の開発を行っている。今回、量産工場対応EUV試作光源において、EUV出力100Wの安定稼働と発光効率5%を達成した。本発表では、上述の成果に寄与した技術開発進捗について報告する。