[15p-318-1~11] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[15p-318-8] 高次高調波光源を用いたMo/Si多層膜ミラーの反射率評価装置の開発

〇五十嵐 裕紀^1,2、谷 峻太郎²、小林 正和¹、柿崎 弘司¹、小林 洋平² (1.ギガフォトン、2.東大物性研)

キーワード：高次高調波発生、13.5nm、Mo/Si多層膜ミラー

次世代の半導体露光用光源としてEUV光源の開発が進んでいる。量産化に向けた課題の一つとして集光ミラーの評価・検査に放射光施設を使用しているため、高コスト・利便性が低いなどがあげられる。そこで小型で利用しやすい光源として高次高調波発生を用いたEUVミラーの検査装置の研究開発を行い、実際に1インチMo/Si多層膜ミラーの反射率測定デモを行ったので報告する。