2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » ナノインプリント技術の進展と展開

[15p-512-1~9] ナノインプリント技術の進展と展開

2017年3月15日(水) 13:30 〜 18:00 512 (511+512)

横尾 篤(NTT)、廣島 洋(産総研)

16:15 〜 16:45

[15p-512-5] Roll to Roll ナノインプリントの進展と新しい展開

谷口 淳1 (1.東理大基礎工)

キーワード:ロールトゥロールナノインプリント、ロールモールド、光硬化樹脂

ロールトゥロールナノインプリントリソグラフィ(RTR-NIL)技術は、ナノパターンを高速に作製することができる。RTR-NILの歴史、方式、これまでの開発状況を説明し、その後、今後の展開に関して概説する。