[15p-F206-1~14] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

△ [15p-F206-5] サスペンデッドCVDグラフェンへのサブ10 nmピッチ周期的ナノ孔構造の作製

〇神崎 晃悠¹、シュミット マレク¹、ムルガナタン マノハラン¹、小川 真一²、水田 博¹ (1.北陸先端大、2.産総研)

キーワード：フォノニック結晶、グラフェン、ヘリウムイオンミリング

グラフェンのデバイ温度は高く、微細加工を施すことでフォノニックデバイスとしての応用が期待されている。しかし、温度≲200℃に対応する周波数領域の熱フォノンの波動性を制御するためには、10 nm以下の微細加工を周期的に行う必要がある。本研究では単層のCVDグラフェンに対して、幅が約100 nmのサスペンデッド構造を作製し、HIMを用いて大面積の周期的ナノ孔構造が形成されるように加工を施した。