[16p-213-1~14] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[16p-213-4] OH含有および酸素欠乏シリカガラス間のOH基拡散

〇(M1)荒川 優¹、佐藤 直哉¹、葛生 伸¹、堀越 秀春²、榊原 宏樹¹ (1.福井大、2.東ソー・エスジーエム)

キーワード：シリカガラス

シリカガラスは表面を平坦に研磨し、接触・加熱することにより接合できる。今回はOH基濃度が高いシリカガラスと、OH基を含まず酸素空孔を含むシリカガラスを接合し、その接合サンプルのOH基の拡散について調べた。OH基濃度が高いシリカガラスとOH基を少量含むシリカガラスの接合サンプルと比較すると今回の接合サンプルのOH基の拡散が低濃度側で進んでいなかった。この違いは酸素欠乏欠陥によるものだと考える。