2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.2 グラフェン

[16p-B6-1~16] 17.2 グラフェン

2017年3月16日(木) 13:30 〜 17:45 B6 (B6)

乗松 航(名大)、藤井 健志(富士電機)

15:00 〜 15:15

[16p-B6-7] SiCテラス上のquasi-free-standingグラフェンの成長

Vinel Vincent1、〇関根 佳明1、日比野 浩樹1,2、熊倉 一英1 (1.NTT物性基礎研、2.関西学院大理工)

キーワード:グラフェン、水素インターカレーション、SiCテラス

SiC基板にSi昇華法により成長したグラフェンはSiCのステップをまたいでいるが、ステップを横切る領域では抵抗が大きく輸送特性が劣化する。今回、SiCテラスを数µmの大きさまでステップバンチングさせ、その後、核形成によりテラス上にステップをまたがないquasi-free-standingグラフェンを成長し、微分干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡、ラマン散乱分光により観察した。