[17a-P1-1~9] 3.2 材料・機器光学

[17a-P1-1] ＧＡを用いたマルチレベル異方性回折格子の設計

〇岡本 浩行¹、野田 浩平¹、坂本 盛嗣¹、佐々木 友之¹、小野 浩司¹ (1.長岡技大)

キーワード：マルチレベル異方性回折格子、遺伝的アルゴリズム

我々はマルチレベル異方性回折格子を設計するためのシステムを開発した。システムでは求められる出力から遺伝的アルゴリズムを用いて最適な構造を設計する。開発したシステムの評価のためにOC型偏光ホログラムの出力をシステムに入力し，マルチレベル異方性回折格子の設計を行った。その結果，OC型偏光ホログラムの出力とほぼ等しい出力を有するマルチレベル異方性回折格の設計を行うことができた。