2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学

[17a-P1-1~9] 3.2 材料・機器光学

2017年3月17日(金) 09:30 〜 11:30 P1 (展示ホールB)

09:30 〜 11:30

[17a-P1-4] ガリウム及びCaF2を利用したポリジメチルシロキサン複合光学系

中窪 奎喬1、朱 峻鋒1、野間田 裕昭1、樋口 宏和1、吉岡 宏晃1、森田 金市2、〇興 雄司1 (1.九州大システム情報、2.ウシオ電機)

キーワード:シリコーン、球面加工、紫外透過フィルター

シリコーンを共通材料とした安価・軽量かつオンデマンドファブリケーションを指向した光学系の要素技術に関する研究。金属ガリウムの低融点を活かした、無研磨での光学用球面の形成、及び、フッ化物微粒子を混入した散乱型紫外線透過フィルター構造について報告する。