[17p-304-1~15] CS.2 6.1強誘電体薄膜,13.3絶縁膜技術,13.5デバイス／集積化技術のコードシェア

△ [17p-304-10] HfO₂膜の強誘電相形成における熱履歴の重要性

〇柴山 茂久¹、徐 倫¹、田 璇¹、右田 真司²、鳥海 明¹ (1.東京大学、2.産総研)

キーワード：HfO2、強誘電体