11:15 〜 11:30 [21a-233-10] ミニマルCVD装置におけるシリコンエピタキシャル製膜の高速化 〇高橋 俊範1、室井 光子1、松尾 美弥1、羽深 等1、池田 伸一2,3、石田 夕起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院理工、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)